企業HP
「高周波技術」と「プラズマ技術」をキーワードとして、半導体・液晶分野製造装置分野のみならず、医療・環境分野など、広く一般産業に活用できる新製品の開発を積極的に進める所存であります。
会社概要
はじめに、会社の概要や事業内容を紹介！！
半導体、液晶基板製造工程において使用される製造装置に搭載するプラズマ用高周波電源等の設計・製造・販売が柱。プラズマを使用した特許技術により、創傷治療装置を開発。骨髄炎へのバイオフィルム治療のためのガスプラズマ研究も開始。
業種名 電気機器
設立年 1985.1
市場 東証スタンダード
従業員数 <21.11>連500名 単164名(40.9歳)[年]526万円
事業内容
注目ポイント
・プラズマ用高周波電源装置などを展開
・海外に代理店を展開
・プラズマ用高周波電源は、製品ラインナップを充実
・自動インピーダンス整合装置でも製品ラインナップを充実
・新たな収益の柱を開発
・多くの領域で需要が増加傾向
半導体・液晶関連事業が柱で海外比率高い。研究機関・大学関連事業は、新たな収益性製品の模索。
業績 （単位:百万円）
業績や損益の中身をチェック！！
PL:損益計算書
・売上原価率/販管費率ともに減少し、営業利益率12.2%⇒13.8%に向上
財務 （単位:百万円）
資産や負債など財務状況をチェック！！
総資産 12,914
自己資本 6,844
資本金 835
利益剰余金(過去の利益貯蓄等) 5,122
B/S:連結貸借対照表（単位：百万円）
【資産の部】
・流動資産 14億増加
・通信設備の増加大きく、有形固定資産 12億増加
【負債の部】
・固定負債の増加大きく、負債合計 6億7千万増加
【純資産の部】
・利益剰余金 7億8千万増加
CF:キャッシュフロー（単位：百万円）
・投資CFは、有形固定資産の取得が主
各種データ
株価や各種指標をチェック！！
（記事投稿時の数値を掲載しています。）
株価（直近2年）
各種指標
PER（株価/1株当たりの純利益） 19.8倍
PBR（株価/1株当たりの自己資本） 2.54倍
配当利回り 0.59%
ROE (自己資本当期純利益率：10%以上で優良) 13.6%
ROA (総資産経常利益率：6%以上で優良) 9.5%
業種平均
・株価は2年前から20%上昇
・稼ぐ能力高いが、PBRは平均より高い
有望企業たる所以（ゆえん）
最後に私が思う有望な点を紹介！！
半導体やメモリ需要の増加から、今後も売上が増加すると考えられる。
まとめ
【概要】
半導体・液晶関連事業が柱で海外比率高い。研究機関・大学関連事業は、新たな収益性製品の模索。
【業績】
売上/利益ともに増加。
《PL：損益計算書》
・売上原価率/販管費率ともに減少し、営業利益率12.2%⇒13.8%に向上
【財務】
自己資本比率、有利子負債ともに問題ないレベル。
《B/S：賃借対照表》
・総資産 15億増加
《CF：キャッシュフロー》
・投資CFは、有形固定資産の取得が主
【各種データ】
・株価は2年前から20%上昇
・稼ぐ能力高いが、PBRは平均より高い
【有望企業たる所以（ゆえん）】
半導体やメモリ需要の増加から、今後も売上が増加すると考えられる。
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